香港六合彩开奖历史记录 日本Rapidus工场扩建筹画包括装配十台EUV光刻机
日本Nikkan Kogyo Shimbun（日刊工业新闻）报说念说，Rapidus 将在两个顶端半导体坐褥基地装配统统十台 \"极紫外（EUV）曝光用具\"。这意味着日本政府鼓舞半导体产业的力度再度加强，指标是让 Rapidus 赶超台积电等公司。
其 2 nm 级工艺节点将于 2027 年在现在正在建立中的 \"篡改集成制造一号\"（IIM-1）工场参加运行。 旧年 12 月日本迎来了第一台 ASML NXE:3800E EUV 光刻机，这瑰丽着该时代在日本的初次部署。
《日刊工业新闻》的报说念征引了 Rapidus 首席实验官小池淳义的谈话，凭证这位雇主的说法，10 台新机器将辨认在两个制造工场：上述的 IIM-1 和 IIM-2。 第二个工场瞻望将在 IIM-1 建成后不久参加使用。
现在尚不了了代工场是否会装配更多的 ASML NXE:3800E 光刻机，也莫得披露真确的期间框架。 《日经新闻》的一篇较早的著述指出，将于 4 月（2025 年）傍边在 Rapidus 的晶圆厂启动试运行，遴荐 2 纳米一代全栅极 (GAA) 时代。 凭证估量的期间表，首批样品将于本年年中运往好意思国博通公司（Broadcom）。
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